李铸国 教授
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研究方向：
激光增材制造；激光制造冶金学
联系方式：
Tel: 021-54748940-8020
Email:lizg@sjtu.edu.cn
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简介：
上海交通大学教授，博士生导师，工学博士。
1972年9月出生。
1994年毕业于上海交通大学，获双学士学位；
1997年同校获硕士学位，并留校工作。
2001-2004年留学日本大阪大学，获博士学位。
2005-2007年作为日本学术振
兴会特别研究员（JSPS FELLOW）在日本近畿大学和大阪大学从事合作研究。主要从事激光焊接与表面工程方面的
研究。获上海市科技进步奖一等奖1项，上海市发明专利奖一等奖1项，中国机械工业科技进步奖三等级1项。在国
内外刊物发表论文40多篇。
科研项目（近五年）：
1. 国家自然科学基金：超硬质纳米复合膜及其低温沉积技术研究
2.国家自然科学基金：高功率半导体激光熔覆铁基非晶涂层的机理与性能研究
3.留学回国人员科研启动基金：超硬质纳米复合膜物理气相沉积技术研究
4.科技部国际科技合作基金：高功率半导体激光结构材料表面性能增强技术研究
5.上海市重大装备基金：3.5KW半导体激光材料表面功能化机器人集成系统及关键技术
6.上海市科委国际科技合作基金：大功率半导体激光在结构模具上应用技术研究
7.企业横向项目：汽车模具材料表面缺陷激光修复技术研究
8.企业横向项目：铝合金暖气片矩形侧封自动焊接技术及装备的研制
9.企业横向项目：钛合金激光焊接试验技术研究
代表论文（近五年）：
1. Z.G. Li, S. Miyake, Characteristics of N-doped TiO2 thin films grown on unheated glass substrate by inductively coupled plasma assisted dc reactive magnetron sputtering, Applied Surface Science, 255（2009）9149.
2.Z.G. Li, Y.X. Wu, S. Miyake, Metallic sputtering growth of high quality anatase phase TiO2 films by inductively coupled plasma assisted DC reactive magnetron sputtering, Surface and Coating Technology, 203 (2009) 3661.
3.J.M. Ni, Z.G. Li, Y. Cai, J. Huang, Y.X. Wu. Mechanical Property and Microstructure of HSLA Steel Laser Hybrid Welded Joint. 62nd IIW Annual Assembly and International Conference. Singapore, July 2009.
4.Z.G. Li, S. Miyake, M. Makino, Y.X. Wu, Metallic sputtering growth of crystalline titanium oxide films on unheated glass substrate using inductively coupled plasma assisted direct current magnetron sputtering, Thin Solid Films, 517 (2008) 699.
5.Z.G. Li, Y.X. Wu, S. Miyake, High-flux ion irradiation with energy of ~20 eV affecting phase segregationand low-temperature growth of nc-TiN/a-Si3N4 nanocomposite films, Journal of Vacuum Science and Technology A 25 (2007) 1524.
6.Zhuguo LI, Shoji MIYAKE, Yixiong WU, Effect of Low-Energy Ion Flux Irradiation on Synthesis of Superhard Nanocomposite Films, Japanese Journal of Applied Physics, 45 (2006) 7866.
7.Zhuguo LI, Shoji MIYAKE, Yixiong WU, Effects of copper doping on structure and properties of TiN films prepared by magnetron sputtering assisted by low energy ion flux irradiation, Japanese Journal of Applied Physics, 45 (2006) 5178.
8.Z.G. Li, M. Mori, S. Miyake, M. Kumagai, H. Saito and Y. Muramatsu,Structure and properties of Ti–Si–N films prepared by ICP assisted magnetron sputtering, Surface and Coatings Technology, 193 (2005) 345.
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